透明導電膜用izgo濺射靶材工藝。
背景技術：
目前，用磁控濺射製造的透明導電薄膜，是液晶顯示、平板顯示、靜電屏蔽、太陽能 電池必需的功能材料。目前，直流磁控濺射法是當前國際高檔顯示器件用透明導電膜的主 導製備工藝。傳統工藝以IT0半導體陶瓷(90% In203-10% Sn02)作爲濺射源，普遍在氬氣 或氬氧混合氣氛中基板100-550攝氏度下用直流磁控濺射法制備IT0透明導電薄膜，所制 備的透明導電薄膜品質優良，可見光透過率> 85%，且電阻率小於10X10_，但由於 IT0材料的成本高昂，其中的主組成原料稀有銦金屬，地殼中存量有限，需要研究新的低制 造成本的透明導電膜用靶材。
