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原硅酸電離方程式

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原硅酸電離方程式

H2SiO4 = (HSiO4)+ + H+

硅酸,化學式爲H2SiO3。是一種弱酸,它的鹽在水溶液中有水解作用。遊離態的硅酸,包括原硅酸(H4SiO4)、偏硅酸(H2SiO3)、二硅酸 (H2Si2O5),酸性很弱。偏硅酸的電離平衡常數K1=2*10(室溫),正硅酸在PH=2~3的範圍內是穩定的,不過若將過飽和的H4SiO4 溶液長期放置,會有無定形的二氧化硅沉澱,爲乳白色沉澱,並以膠態粒子、沉澱物或凝膠出現

硅酸(Silicic acid)別名含水二氧化硅、矽酸,化學式爲H2SiO3,是一種弱酸。硅酸鹽在水溶液中有水解作用。遊離態的硅酸,包括原硅酸(H4SiO4)、偏硅酸(H2SiO3)、二硅酸 (H2Si2O5),酸性很弱。

實驗室採用水玻璃(硅酸鈉)和鹽酸反應或者硅酸鈉和二氧化碳和水反應制得硅酸膠體。

化學方程式:Na2SiO3+2HCl=2NaCl+H2SiO3↓。

電離平衡常數:K1=2.2*10-10(30℃)。

工業製法:

1、鹽酸法將細孔球形硅膠用鹽酸浸泡4~6h後用純水洗滌,烘乾72h以上,用純水洗滌後,再在70~80℃二次烘乾,製得硅酸。

2、在硅酸鈉溶液中加入酸與電解質,攪拌下反應生成硅酸凝膠,再經老化、洗滌、乾燥、活化製得硅膠。不同的原料配比及工藝條件可製得不同規格的產品。

3、在硅酸鈉溶液中加入酸及一定量電解質,在攪拌下反應生成硅酸凝膠,再經老化、洗滌乾燥活化製得硅膠。採用不同原料配比及工藝條件可製得不同規格的產品。