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鍍鉻工藝流程

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鍍鉻工藝流程

第一個階段,除油脂。用化學藥品去除金屬表面的油脂,以確保表面沒有影響電鍍的成分。

第二個階段,清洗。徹底清潔表面有助於清除髒東西及殘留物,例如微小的灰塵顆粒。

第三個階段,底層(被鍍)金屬需經過處理以確保金屬表面儘可能光滑,從而保證鍍層在較長時間內保持較高的完整性。常用的方法有鍍銅、鍍鎳然後掛鉻。

第四個階段,將金屬放入裝有預處理溶液的容器中,並讓其逐漸升溫至合適溫度,開始鍍鉻。

第五階段也是最後階段,電鍍過程開始,容器中的溶液爲含鉻的化合物混合溶液,並允許化合物蝕刻到金屬表面(透過電化學反應)。而鍍層厚度取決於金屬停留在容器內的時間。

鍍鉻工藝流程

1、鐵件鍍鉻工藝流程:

除蠟 → 熱浸除油 → 陰極 → 陽極 → 電解除油 → 弱酸浸蝕 → 預鍍鹼銅 → 酸性光亮銅(選擇)→ 光亮鎳 → 鍍鉻或其它

除蠟 → 熱浸除油 → 陰極 → 陽極 → 電解除油 → 弱酸浸蝕 → 半光亮鎳 → 高硫鎳 → 光亮鎳 → 鎳封(選擇)→ 鍍鉻

2、鋅合金鍍鉻工藝流程

除蠟 → 熱浸除油 → 陰極電解除油 → 浸酸 → 鹼性光亮銅 → 焦磷酸銅(選擇性)→ 酸性光亮銅(選擇性)→ 光亮鎳 →鍍鉻

3、不鏽鋼直接鍍鉻工藝

1) 電化學除油→熱水洗→冷水洗→浸酸活化(1ml/L HCL、10ml/L H2SO4,室溫,半分鐘適用於自動線上不鏽鋼鍍鉻,不宜鍍銅或鎳)→水洗→鍍鉻。

2) 陰極電化學除油→清洗→陽極活化(10A/dm2)→直接鍍鉻。

3) 化學除油→清洗→陽極電化學除油(0.5A/dm2)→清洗→浸酸活化(1ml/L HCL、10ml/L H2SO4,室溫,45S)→清洗→鍍鉻

注:鍍鉻時,應先用是正常電鍍時電流密度的1.5~2倍鍍3~5分鐘,然後再正常電流密度電鍍,要儘量縮短各工序之間的過渡引起的停留時

鍍鉻工藝流程

鍍鉻過程除了與其它鍍種具有共同點外,還有其許多特殊的地方:①鍍鉻電解液的主要成分不是金屬鉻鹽,而是具有強氧化性的鉻酸。

②電流效率很低,一般爲13~16%,最高只能達到23%左右,因而在鍍鉻過程中氫氣大量析出,帶出有毒液霧,需要有良好的吸風裝置和採用鉻霧抑制劑。

③溶液中必須添加少量外加的陰離子,如SO42-、F-、SiF62-等,還要在電解液中維持一定量的三價鉻。

④分散能力低,對於形狀比較複雜。