光學鍍膜工藝流程

光學鍍膜工藝：構成光學塗層的各個層的厚度通常爲幾十納米到幾百納米，而單個光學塗層可以由幾百層組成。

首先表面製造開始，以最大限度地減少表面粗糙度和亞表面損傷。

繼續進行表面清潔和準備，然後是高性能薄膜設計的沉積。沉積技術包括熱蒸發、電子束、離子輔助沉積和先進的等離子體沉積。

再進行塗層，取決於操作環境、光譜要求、物理特性、應用要求、和經濟目標。

光學鍍膜過程透過使用精密計量工具的綜合性能測試完成。