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是製備薄膜的材料。
靶材是製備薄膜的主要材料之一。
靶材用於“晶圓製造”和“芯片封裝”兩個環節,在晶圓製造環節主要被用作金屬濺鍍,在芯片封裝環節常用作貼片焊線的鍍膜。半導體芯片用金屬濺射靶材的作用,就是給芯片上製作傳遞資訊的金屬導線。半導體靶材要求超高純度金屬、高精密尺寸、高集成度等,往往選取高純銅、高純鋁、高純鈦、高純鉭、銅錳合金等,集成電路芯片通常要求鋁靶純度在 5N5以上。
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