溼法光刻和幹法光刻哪個更好

溼法光刻更好一些

大多是溼法化學刻蝕是將硅片浸入化學溶劑或向硅片上噴灑刻蝕溶劑。對於浸入式刻蝕，是將硅片進入化學溶劑，透過需求攪拌來保證刻蝕過程以一致或者恆定的速率進行噴灑式刻蝕透過不斷向硅片表面提供新的刻蝕劑來極大地增加刻蝕速率和一致性，噴灑式較浸入式會更好一點