垂直髮射裝置原理

導彈發射時導彈姿態呈垂直狀態的一種發射方式。垂直髮射主要用於發射地地和潛地彈道導彈。具有發射設備簡單、場地面積小、導彈升空快、動力損失小等特點。

發射時可利用地面或艇體（船體）來抵消導彈發射時產生的後坐力，與傾斜發射相比，簡化了發射設備的結構。有些地空導彈、艦空導彈及巡航導彈也採用這種發射方式。