PVD即物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基底上。
它具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附着力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優點。
PVD塗層技術是一種綠色清潔的表面處理技術—在高真空中採用物理方法在目標工件表面上製備一層幾百納米到幾十微米的塗層，可以提供特定表面強化需求。
技術核心思想:使用厚度僅僅數微米的二維材料對材料表面進行保護，實現工具的使用壽命和使用性能得到顯著提升，獲得低成本下高效率的效用，適用於小型精密工件的表面強化。
