蒸發鍍和濺射鍍的區別

區別是原理不同，膜的粘附性及結合的效果也不同，食用的材料也不同。

蒸發鍍利用高能電子束轟擊靶材，使材料表面產生很高的溫度，由固態直接昇華到氣態沉澱到工件表面所形成的薄膜，主要運用在光學方面。

濺射鍍是高能離子轟擊靶材，使靶材表面原子飛翼出來的過程稱濺射。

蒸發鍍膜的粘性較差，但膜的均勻性好濺射鍍膜濺射能量大和基底的粘附性也好，但是膜會有顆粒感，就是均勻性稍差。