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干蚀刻工艺带走的是光阻吗
心理
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干蚀刻工艺带走的是光阻，利用电浆(plasma)来进行半导体
薄膜
材料
的蚀刻加工。其中电浆必须在真空度约10至0.001Torr的
环境
下，才有可能被激发出来
标签：
带走
蚀刻
光阻
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